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蔭罩式PDP掃描電極和蔭罩對陽極條紋的莫須有
| 白文采納基于能源學(xué)模子的OOPIC仿真硬件模仿存在相反掃描電極幅度和蔭罩構(gòu)造的蔭罩式等離子體預(yù)示器(PDP)尖端放電單元內(nèi)的尖端放電內(nèi)中,綜合單元內(nèi)的條紋單位、散布狀態(tài)和介質(zhì)層名義壁電荷散布狀況,鉆研掃描電極幅度和蔭罩構(gòu)造對陽極條紋的莫須有。后果表明,掃描電極幅度增多,尖端放電單元內(nèi)的主尖端放電海域增大,條紋可散布空間壓縮,條紋景象削弱。大小孔蔭罩構(gòu)造也會使條紋景象削弱。鉆研發(fā)現(xiàn),蔭罩式PDP構(gòu)造陽極條紋的散布海域與介質(zhì)層名義電荷積攢的規(guī)模親密有關(guān),陽極條紋只涌現(xiàn)在陽極名義介質(zhì)層有壁電荷積攢,而對應(yīng)的負(fù)極名義介質(zhì)層無壁電荷積攢的海域。 等離子體體預(yù)示器(PDP)存在高亮度、高比照度、預(yù)示純立體圖像無扭曲、可兌現(xiàn)超薄設(shè)計和超寬視角等特點,因而受到工建筑界的寬泛關(guān)注。自20世紀(jì)50年歲Burroughs公司開收回用來數(shù)碼預(yù)示的直流氣體尖端放電管以來[1],等離子體體預(yù)示技能失去了快捷停滯。各族等離子體體預(yù)示器構(gòu)造相繼問世,蔭罩式PDP就是其中一種。蔭罩式PDP以非金屬蔭罩接替?zhèn)鹘y(tǒng)的絕緣介質(zhì)障壁[2],存在制作工藝容易,易于兌現(xiàn)少量量生產(chǎn),尖端放電電抬高、亮度高、一呼百應(yīng)效率快等長處[3],該署長處使得蔭罩式PDP變成一種很存在商場競爭力和利用前景的預(yù)示器件。然而將該技能寬泛地利用于人們的日常生涯之前,仍須要發(fā)展更多的深刻詳細(xì)的鉆研作業(yè)�，F(xiàn)有很多與該技能有關(guān)的問題再有待于克服,比如蔭罩式PDP發(fā)亮效率的改善、功耗的縮小等。而關(guān)于蔭罩式PDP尖端放電單元陽極條紋景象的鉆研,對改善其尖端放電性能無比不足道[4]。 陽極條紋景象是指因為等離子體體密度沿陽極散布不勻稱,等離子體體預(yù)示屏尖端放電單元的發(fā)亮涌現(xiàn)明暗距離的景象。鉆研條紋景象能夠更深刻的理解等離子體體尖端放電機(jī)理,找到各參數(shù)與尖端放電效率的關(guān)系,從而為普及其尖端放電效率提供無效路徑[5-6]。陽極條紋曾經(jīng)在很多試驗中被觀測到[7],相反尖端放電單元構(gòu)造,陽極條紋散布狀況是相反的[8],蔭罩式PDP作為一種新型的尖端放電構(gòu)造,其條紋構(gòu)成機(jī)理和特點再有待于更深刻、零碎的鉆研,尖端放電單元電極形態(tài)、尤其是蔭罩式PDP中特有的蔭罩構(gòu)造對陽極條紋的莫須有,也均須要進(jìn)一步的探尋和發(fā)現(xiàn)。 白文采納基于能源學(xué)模子的OOPIC仿真程序模仿相反掃描電極幅度和蔭罩構(gòu)造下蔭罩式PDP尖端放電單元內(nèi)的尖端放電狀況[9],鉆研掃描電極幅度和蔭罩構(gòu)造對條紋景象的莫須有,后果表明,掃描電極幅度和蔭罩構(gòu)造都會對陽極條紋產(chǎn)生莫須有,增大掃描電極幅度和改觀蔭罩構(gòu)造都有可能使得尖端放電單元內(nèi)陽極條紋數(shù)目縮小,條紋景象削弱、乃至失蹤。陽極條紋涌現(xiàn)海域與陰、陽極名義介質(zhì)層壁電荷積攢狀況親密有關(guān)。陽極條紋只涌現(xiàn)在陽極名義介質(zhì)層有壁電荷積攢,而對應(yīng)的負(fù)極名義介質(zhì)層無壁電荷積攢的海域。增大掃描電極幅度使負(fù)極名義介質(zhì)層壁電荷積攢的海域變寬,采納大小孔蔭罩構(gòu)造使得陽極名義介質(zhì)層有壁電荷積攢的海域放大,兩種狀況下陽極條紋的可散布海域均放大,條紋景象削弱。 1、蔭罩式PDP尖端放電單元構(gòu)造 蔭罩式PDP尖端放電單元由掃描電極、介質(zhì)層、尖端放電空間、蔭罩和尋址電極等組成。其中蔭罩孔的形態(tài)決議了尖端放電單元的形態(tài),因而蔭罩構(gòu)造的相反,將間接莫須有尖端放電單元的尖端放電特點。圖1為兩種蔭罩孔形態(tài)形成的尖端放電單元構(gòu)造示用意。其中圖1(a)的蔭罩孔為直孔,截面圖中單元左右兩側(cè)為非金屬蔭罩,熒光粉涂覆在蔭罩孔的內(nèi)名義,因為蔭罩內(nèi)名義積無限,況且其法向與前、后基板平行,因而這種蔭罩構(gòu)造熒光粉轉(zhuǎn)化的可見光透過前基板的效率無限,從而制約尖端放電單元的發(fā)亮效率。圖1(b)的蔭罩孔為大小孔構(gòu)造,這種構(gòu)造下介質(zhì)層湊近蔭罩的全體也被蔭罩遮蓋,同樣熒光粉涂覆在蔭罩孔的內(nèi)名義。 該構(gòu)造增大了尖端放電單元熒光粉涂覆面積,且增多的全體與前基板平行,單元內(nèi)尖端放電產(chǎn)生的光子將更輕易透過前基板,被人眼吸收,因而這種構(gòu)造更無利于普及等離子體體預(yù)示器的發(fā)亮效率。白文采納能源學(xué)模子鉆研了相反電極幅度單元的尖端放電特點以及陽極條紋變遷狀況,聯(lián)合尖端放電單元壁電荷積攢狀況對后果繼續(xù)綜合。同聲為了鉆研蔭罩構(gòu)造對陽極條紋的莫須有,還比擬了兩種蔭罩構(gòu)造的尖端放電特點和陽極條紋。 4、論斷 白文對準(zhǔn)新型蔭罩式PDP構(gòu)造,采納能源學(xué)模子模仿了電極幅度和蔭罩孔構(gòu)造對尖端放電特點的莫須有,詳盡綜合鉆研了陽極條紋的變遷狀況。后果表明,掃描電極幅度的增多和大小孔的蔭罩構(gòu)造都使條紋散布空間變窄,條紋數(shù)目縮小,乃至失蹤。其中掃描電極幅度增多,使主尖端放電海域增多,條紋散布空間放大,從而使得條紋數(shù)目縮小。而大小孔蔭罩構(gòu)造間接使陽極海域減小,在相反主尖端放電海域狀況下,條紋散布空間放大,條紋數(shù)目縮小。模仿后果還表明,陽極條紋的散布與壁電荷積攢狀況親密有關(guān)。陽極條紋只涌現(xiàn)在陽極名義介質(zhì)層有壁電荷積攢,而對應(yīng)的負(fù)極名義介質(zhì)層無壁電荷積攢的海域。蔭罩式PDP構(gòu)造中,負(fù)極名義介質(zhì)層電荷積攢規(guī)模變寬,或陽極名義介質(zhì)層電荷積攢規(guī)模減小,均可招致條紋散布空間減小,數(shù)目縮小。 羅茨水環(huán)真空機(jī)組、羅茨旋片真空機(jī)組 |
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